第421章 谢威这是不准备过了？8亿砸激光跟纳(3/6)
研经费投入减少了很多。
“中科院半导所的JK-3型只有1微米精度，华清大学的分布式投影光刻机目前精度同样只有1微米，学校的就不说了，到目前只有2微米，还只能用于实验室……这几年因为高考人才跟经费等原因，我们跟这两单位的合作……”
谢威再次叹了口气。
早几年，他就有合作的想法。
奈何，谁主导就成了问题。
谁都不愿意由其他单位来主导，谢威更不想让其他单位主导——他提出的是采用极紫外光源作为光刻机的光源。
在全世界范围内，连深紫外（DUV）目前的研制都不是很多，主流的光源还是紫外光源（UV），也就是在哈工大，谢威作为隐形的话事人，才不会有人质疑。
中科院半导所跟华清大学等，根本就不鸟谢威——现在手里的研究成果都没法跟国外最前沿的比，一旦放弃，之前的研究就白费了。而谢威提出的极紫外光源，目前几乎没有什么基础——这是要利用准分子激光照在锡滴液发生器上，激发出13.5纳米的光源来作为光刻机的光源。
激光！
纳米！
这两种在目前全世界范围内，都属于绝对的前沿科技！
不仅需要更先进的检测系统，同样也需要精度更高的控制系统。
“谢主任，咱们要不先放弃极紫外光源？”
一直沉默的黄先生看着谢威的眼睛，轻声开口。
“极紫外光源的研究，是不可能放弃的！哪怕学校所有的项目全部停了，也不能放弃！”
谢威摇头。
脸上满是坚决。
放弃是不可能放弃的，一辈子都不可能放弃。
无论激光还是纳米制造技术，都是未来。
“以目前的情况，十年内，都不会有成果。这方面消耗的资金实在是太多了……”
黄先生叹了口气，看着谢威满脸的坚定，表情有些复杂。
她一直都没想明白在她印象中向来沉稳的谢威，为什么在本就属于半导体芯片生产流程中最关键、也是最复杂的光刻机上会如此“好高骛远”。
搞基础一些的，先解决有无，积累技术，然后再往最顶级的技术发起冲击啊。
可谢威直接跳过了前面的技术跟经验积累阶段。
刘德宝跟倪光南的目光都投向了谢威，希望黄先生的劝导能管用，这事情，刘德宝等人可是劝了谢威不知道多少次。
没用！
“这事情就不说了。李瑞主任将会牵头，整合华清、中科院半导所等单位的力量，重
本章还未完，请点击下一页继续阅读>>>
